摆脱ASML光刻机? 华为公开芯片新技术, 还是任正非有远见

ASML光刻机和国产芯片

在全球芯片产业链中，来自于荷兰的ASML公司扮演了非常重要的角色，因为它是唯一能生产出EUV光刻机的厂商，各大芯片代工厂都离不开它。EUV光刻机作为制造7nm及其以上制程芯片的核心设备，不仅造价昂贵，而且数量稀少，有时候就算有钱都不一定能买到。

而ASML正是凭借对EUV光刻机的垄断，才在半导体市场享有举足轻重的地位，包括台积电和三星等顶尖芯片代工巨头都需要与它建立合作。此外，不止是EUV光刻机，ASML最普通的光刻机产品，往往也能卖出天价，毕竟现在成熟工艺的芯片依然是市场的主流。

可能很多人都在想，光刻机到底是一种什么样的设备，芯片制造为什么离不开它？其实说起来也很简单，光刻机又名掩模对准曝光机，是将集成电路刻画在半导体晶圆上的关键设备，而这一过程恰好决定了芯片能否被生产出来和先进程度。

简而言之，没有光刻机，集成电路的刻画工作就无法完成，芯片也不能成型。而且只有高端的光刻机，才能满足先进芯片的生产要求，不然的话精度只会停留在中低端水平。正因于此，ASML的EUV光刻机才会被各大芯片代工厂视为珍宝，它的作用远超人们的想象。

我们国内曾经也想过向ASML进购一台EUV光刻机，但是由于相关协议和米国的影响，导致这起交易只能以失败而告终。更有甚者，国内普通光刻机的数量也严重不足，这直接造成了国产代工厂迟迟无法崛起，国内的芯片产业不够发达。

华为公开芯片新技术

可以说，如今国产芯片最大的短板就在于光刻机领域，如果能够绕开光刻机，那么国内未必没有可能追上国外先进技术的脚步。然而在半导体行业，光刻机是公认的必需品，这么多年来都没有公司能摆脱它，不然ASML也不会有现在的地位。

不过，凡事皆有可能，根据国内媒体最新报道称，华为公开芯片新技术，或将摆脱ASML光刻机？据了解，近日华为对外公布了一项新的专利技术，是关于光学芯片及其制造过程的，采用了一种全新的生产方式，不需要借助光刻机的支持。

光学芯片被视为最有可能代替传统硅基芯片的新型产品，虽然目前还处于萌芽之中，但是其意义重大，很多半导体公司都开始了研发工作。而华为作为我们国内最强的芯片巨头，自然不会放过这项全新的技术，它对光学芯片的研究已然走在了世界的前沿。

据悉，华为公开的这项光学芯片技术，覆盖的范围非常广，不仅包含设计原理，还明确指出了晶圆制造和切割方面的方法。在这些过程中，华为避免了对光刻机的依赖，推出了前所未有的解决方案，为国内规划出了一个崭新的发展方向。

毫无疑问，这对于国内而言，是一个非常好的消息，可以帮助国产芯片另辟蹊径，实现对国外的换道超车。但需要注意的是，华为只是公布了技术，并没有推出真正的光子芯片，这个领域还处于空白阶段，需要国内企业不断地去探索和进步。

还是任正非有远见

从上述的情况中不难看出，还是任正非有远见，华为取得新的技术突破，很好地证明了任老的智慧。因为早在很久之前，任正非就表示，要想在传统硅基芯片领域超越国外是很困难的，毕竟我们国内各方面都处于弱势，只有开辟出新的道路，才有反超的机会。

现在看来，任正非的话一点都没错，硅基芯片和光刻机都是国内的技术难点，短时间内很难完成崛起。但是光学芯片就不一样了，这是一个完全陌生的领域，只要国产公司愿意去研发，就一定能收获到好的结果，最终帮助国产技术全面发展起来。

相信华为一定会抓住机会，带来更多的好消息！对此，你们怎么看呢？欢迎留言和转发。